Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode

Este documento está com acesso restrito a determinado Login e Senha.

Se você tiver permissão de acesso ao documento, clique em CONTINUAR.
(abrirá a janela para entrar Login e Senha)

Caso contrário, solicite uma cópia do documento, enviando um e-mail para bibdigital@inpe.br