| Fechar | |
|
Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode
Lista de arquivos depositados em: |
|
| Nome | Última modificação | Tamanho |
| :: chiappim_relationships.pdf | 19/08/2016 15:45 | 3.5 MiB |
| 2 arquivos escondidos |
| Fechar |